XRF鍍層測(cè)厚儀是一種功能強(qiáng)大的材料涂/鍍層測(cè)量?jī)x器，可應(yīng)用于材料的涂/鍍層厚度、材料組成、貴金屬含量檢測(cè)等領(lǐng)域，為產(chǎn)品質(zhì)量控制提供、快速的分析。基于微軟中文視窗系統(tǒng)的中文版應(yīng)用軟件包，實(shí)現(xiàn)了對(duì)CMI主機(jī)的自動(dòng)化控制，分析中不需要任何手動(dòng)調(diào)整或手動(dòng)參數(shù)設(shè)定。可同時(shí)測(cè)定多種元素。數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)報(bào)告功能允許用戶(hù)自定義多媒體分析報(bào)告格式，以滿(mǎn)足特定分析報(bào)告格式要求；如在分析報(bào)告中插入數(shù)據(jù)圖表、測(cè)定位置的圖象、CAD文件等。統(tǒng)計(jì)功能提供數(shù)據(jù)平均值、誤差分析、大值、小值、數(shù)據(jù)變動(dòng)范圍、相對(duì)偏差等多種數(shù)據(jù)分析模式。

　　XRF鍍層測(cè)厚儀采用二次熒光法：它的原理是物資經(jīng)X射線(xiàn)或粒子射線(xiàn)照射后，由于吸收過(guò)剩的能量而釀成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物資必需將過(guò)剩的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線(xiàn)鍍層厚度丈量?jī)x或成份分析儀的原理就是丈量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。

　　XRF鍍層測(cè)厚儀測(cè)量注意事項(xiàng)：

　　1、在進(jìn)行測(cè)試的時(shí)候要注意標(biāo)準(zhǔn)片集體的金屬磁性和表面粗糙度應(yīng)當(dāng)與試件相似。

　　2、測(cè)量時(shí)側(cè)頭與試樣表面保持垂直。

　　3、測(cè)量時(shí)要注意基體金屬的臨界厚度，如果大于這個(gè)厚度測(cè)量就不受基體金屬厚度的影響。

　　4、測(cè)量時(shí)要注意試件的曲率對(duì)測(cè)量的影響。因此在彎曲的試件表面上測(cè)量時(shí)不可靠的。

　　5、測(cè)量前要注意周?chē)渌碾娖髟O(shè)備會(huì)不會(huì)產(chǎn)生磁場(chǎng)，如果會(huì)將會(huì)干擾磁性測(cè)厚法。

　　6、測(cè)量時(shí)要注意不要在內(nèi)轉(zhuǎn)角處和靠近試件邊緣處測(cè)量，因?yàn)橐话愕臏y(cè)厚儀試件表面形狀的忽然變化很敏感。

　　7、在測(cè)量時(shí)要保持壓力的恒定，否則會(huì)影響測(cè)量的讀數(shù)。

　　8、在進(jìn)行測(cè)試的時(shí)候要注意儀器測(cè)頭和被測(cè)試件的要直接接觸。