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CIOE中國光博會熱力來襲,優(yōu)尼康邀您共赴盛會!

2024-09-02 [290]


本屆CIOE中國光電博覽會匯聚了來自全球超30個國家和地區(qū)的超3700家的優(yōu)質(zhì)參展企業(yè),作為覆蓋光電全產(chǎn)業(yè)鏈的綜合型展會,覆蓋信息通信、精密光學、攝像頭技術(shù)及應(yīng)用、激光及智能制造、紅外、紫外、智能傳感、新型顯示等板塊。優(yōu)尼康將參展第二十五屆中國光電博覽會!

誠邀您蒞臨觀展


優(yōu)尼康將攜多款膜厚儀參展

期待與您現(xiàn)場探討膜厚測量的種種應(yīng)用!

現(xiàn)場還有更多趣味互動,等你贏獎品~

優(yōu)尼康在深圳國際會展中心3號館

展館預覽圖

優(yōu)尼康展位3B22

展位預覽

CIOE中國光博會熱力來襲,優(yōu)尼康邀您共赴盛會!

更多驚喜活動逐步解鎖中

趣味獎品?參與可得!

參展設(shè)備

F50 膜厚測量儀

F50可以非常簡單地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜厚度分布圖。采用r-θ 極坐標移動平臺,可以快速定位所需的測試點并且實時獲得測試厚度,大約每秒測試兩點。

相關(guān)應(yīng)用:半導體制造(光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨);LCD 液晶顯示器(聚酰亞胺、ITO 透明導電膜);光學鍍膜(硬涂層、抗反射層);MEMS 微機電系統(tǒng)(光刻膠、硅系膜層)。

P7 臺階儀

P-7可以對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進行2D和3D測量,其掃描可達150mm而無需圖像拼接。

相關(guān)應(yīng)用:薄膜/厚膜臺階;蝕刻深度量測;光阻/光刻膠臺階;柔性薄膜;表面粗糙度/平整度表征;表面曲率和輪廓分析;薄膜的2D stress量測;表面結(jié)構(gòu)分析;表面的3D輪廓成像;缺陷表征和缺陷分析。


F54-XY-200 薄膜厚度測量儀

F54-XY-200配備自動化薄膜厚度繪圖系統(tǒng),借助F54-XY-200先進的光譜反射系統(tǒng),可以快速輕松地測量最大200 x 200mm樣品的薄膜厚度。

相關(guān)應(yīng)用:半導體制造(光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨);LCD 液晶顯示器(聚酰亞胺、ITO 透明導電膜);光學鍍膜(硬涂層、抗反射層);MEMS 微機電系統(tǒng)(光刻膠、硅系膜層)。

CIOE中國光博會熱力來襲,優(yōu)尼康邀您共赴盛會!

Profilm3D 白光干涉光學輪廓儀

Profilm3D 使先進的垂直干涉掃描 (WLI) 與高精度的相位干涉 (PSI) 技術(shù)。以強大的性價比實現(xiàn)次納米級的表面形貌研究。

相關(guān)應(yīng)用:粗糙度測量;三維形貌表征;臺階高度測量

FS-1 多波長橢偏儀

Film Sense FS-1多波長橢偏儀采用壽命長 LED 光源和非移動式部件橢偏探測器,可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現(xiàn)可靠地薄膜測量。

相關(guān)應(yīng)用:二氧化硅和氮化物,高介電和低介電材料,非晶和多晶材料,硅薄膜,光刻膠。高和低指數(shù)薄膜,如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO(如 ITO),非晶硅薄膜,有機薄 膜(OLED 技術(shù))等


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