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Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀

簡(jiǎn)要描述:Lumina AT1薄膜缺陷檢測(cè)儀實(shí)現(xiàn)亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應(yīng)力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像。實(shí)用于透明、硅、化合物半導(dǎo)體和金屬基底。在3分鐘內(nèi)掃描并顯示150毫米晶圓??梢詷?biāo)刻出缺陷的位置,以便進(jìn)一步分析。 可容納高達(dá)300 x 300 mm的非圓形和易碎基板。 能夠通過(guò)一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。

  • 產(chǎn)品型號(hào):AT1
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-06-28
  • 訪  問(wèn)  量:743
產(chǎn)品詳情

Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀

產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 實(shí)現(xiàn)亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應(yīng)力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像。

  • 實(shí)用于透明、硅、化合物半導(dǎo)體和金屬基底。

  • 在3分鐘內(nèi)掃描并顯示150毫米晶圓。

  • 可以標(biāo)刻出缺陷的位置,以便進(jìn)一步分析。

  • 可容納高達(dá)300 x 300 mm的非圓形和易碎基板。

  • 能夠通過(guò)一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。


系統(tǒng)優(yōu)勢(shì)的四個(gè)檢測(cè)通道:

  • 偏光(污漬、薄膜不均勻性)  

  • 坡度(劃痕、表面形貌)

  • 反射率(內(nèi)應(yīng)力、條紋)

  • 暗場(chǎng)(顆粒、夾雜物)



AT1應(yīng)用:

1.透明基底上的缺陷

Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀

Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀

Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀



2.單層污漬或薄膜不均勻性

Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀

3.化合物半導(dǎo)體的晶體缺陷

Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀

在化合物半導(dǎo)體基底和外延生長(zhǎng)層上檢測(cè)和分類(lèi)多種類(lèi)型的晶體缺陷


AT1的多用途:

  • 缺陷類(lèi)型

  • 薄厚基板

  • 透明和不透明基板

  • 電介質(zhì)涂層

  • 金屬涂層

  • 鍵合硅片

  • 開(kāi)發(fā)和在線(xiàn)生產(chǎn)



AT1 軟件使用來(lái)自多個(gè)探測(cè)器任意組合的數(shù)據(jù)生成缺陷圖和報(bào)告:

  • 地圖和位置

  • 缺陷數(shù)量

  • 彩色編碼缺陷

  • 缺陷尺寸


Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀



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